靶材是通过磁控溅射、电子束蒸发或其他类型的镀膜系统（设备）在适当的工艺条件下，溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
一般靶材主要由靶坯、背板等部分构成，其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的重要部分，在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。
表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。
常用表面处理的工艺有：
真空电镀、电镀工艺、阳极氧化、电解抛光、移印工艺、镀锌工艺、粉末喷涂、水转印、丝网印刷、电泳等。
离子镀膜与电镀膜相比较，主要有以下几大优点:
1.离子镀膜致密，耐蚀性好，
2.镀膜中不含镍或镉元素，对人体无害，更不引起癌变。
3.镀膜附着性好，而电镀膜与基材之间是没有过渡层的。
4.离子镀膜过程均在真空条件下进行，无三废排放，不污染环境，更不需三废治理和投资。
电镀：电化学方法，应用范围比较广，可以是装饰性电镀（家电面板及配件等）、功能性电镀（电子行业的焊接、接触）、防腐性电镀（常见的镀锌）。实用的材料大多为金属，ABS塑料等也常被电镀处理。
